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MProbe NIR薄膜测厚仪
采用近红外光谱(NIR)的薄膜测厚仪,可以用于测量一些可见光和紫外光无法使用的应用领域,比如在可见光范围内有吸收的太阳能薄膜(CIGS, CdTe)可以快速的测量。采用近红外光谱(NIR)的测厚仪
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薄膜,片材在线测厚仪
仪器简介:热电瑞美公司RM200在线测量和控制系统是专门设计应用于薄膜生产线,可以在线测量薄膜的厚度,并反馈信号自动控制模头螺栓,使薄膜厚度均匀,提高产品质量,降低原材料消耗。热电瑞美公司在上海建有
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MProbe NIR薄膜测厚仪
和材料,多样品测量,动态测量和产线批量处理。采用近红外光谱(NIR)的测厚仪可以用于测量一些可见光和紫外光无法使用的应用领域,比如在可见光范围内有吸收的太阳能薄膜(CIGS, CdTe)可以快速的测量
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MProbe Vis薄膜测厚仪
MProbe Vis薄膜测厚仪大部分透光或弱吸收的薄膜均可以快速且稳定的被测量。比如:氧化物,氮化物,光刻胶,高分子聚合物,半导体(硅,单晶硅,多晶硅),半导体化合物(AlGaAs, InGaAs
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MProbe系列薄膜测厚仪
当一束光入射到薄膜表面时,薄膜上表面和下表面的反射光会发生干涉,干涉的发生与薄膜厚度及光学常数等有关,反射光谱薄膜测厚仪就是基于此原理来测量薄膜厚度。反射光谱干涉法是一种非接触式、无损的、精确且快速
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MProbe RT薄膜测厚仪
大部分透光或弱吸收的薄膜均可以快速且稳定的被测量。比如:氧化物,氮化物,光刻胶,高分子聚合物,半导体(硅,单晶硅,多晶硅),半导体化合物(AlGaAs, InGaAs,CdTe, CIGS),硬涂层
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MProbe UVVisSR薄膜测厚仪
MProbe UVVisSR薄膜测厚仪大部分透光或弱吸收的薄膜均可以快速且稳定的被测量。比如:氧化物,氮化物,光刻胶,高分子聚合物,半导体(硅,单晶硅,多晶硅),半导体化合物(AlGaAs
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安东帕 CAT²c/i涂层测厚仪 薄膜的磨损率测量
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MProbe Vis薄膜测厚仪
性能参数:技术参数: 大部分透光或弱吸收的薄膜均可以快速且稳定的被MProbe Vis测厚仪测量。比如:氧化物,氮化物,光刻胶,高分子聚合物,半导体(硅,单晶硅,多晶硅),半导体化合物
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MProbe RT薄膜测厚仪
大部分透光或弱吸收的薄膜均可以快速且稳定的被测量。比如:氧化物,氮化物,光刻胶,高分子聚合物,半导体(硅,单晶硅,多晶硅),半导体化合物(AlGaAs, InGaAs,CdTe, CIGS
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